PVD(物理的形成プロセス)
physical vapor deposition
気相中の微粒子製造プロセスの一つで,高温蒸気の冷却による物理的形成プロセスである。蒸気の物理的冷却により後で粒子となる蒸気分子が過飽和の状態となり,これらの分子が互いに衝突・合体(凝集)および蒸発を繰り返しながら,まず分子の集合体であるクラスターが形成される。次にクラスター同士が凝集もしくは蒸気が凝縮したりして微粒子が製造される。PVD では CVD(気相化学反応法)と同様に純度の高い微粒子が連続的に製造できるため,微粒子の製造プロセスもしくは薄膜の製造プロセスとして広く用いられている。しかし,上述のように,製造される粒子が凝集を繰り返しながら成長していくと,多くの場合,一次粒子と呼ばれる小さい粒子から構成された凝集体が生成されることが多い。
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