噴流流動層造粒装置
spouted-fluidized bed granulator
通常の標準型流動層よる流動化が困難な粗い粒子群,あるいは,粒子間の付着を防止しつつ粒子のコーティング造粒を行う際には,流動層の内部に循環流を発生させる方法が採用されることが多い。特に図中の(a)は円錐形ガス分散器による粒子群の流動化,ならびにその円錐の最狭部からガスの導入による噴流化の機構を備え,この噴流に沿って上向きにスプレーを設置した装置である。この形式による造粒ではフィルムコーティング造粒(または懸濁液のスプレーによるレイヤーリング造粒)に適しているが,操作条件の設定の仕方によっては凝集造粒にも用いられる。しかし,コーティング造粒では図中の(b)のように噴流層自体にドラフト管を内蔵させる方式が用いられ,この種の装置によるコーティング造粒をワースター(wurster)法ともいう。以上の二機種の造粒装置は,一般に噴流流動層造粒装置という名称がよく使われるが,装置型式の観点では噴流層をベースにした改良型といえよう。
→ 噴流層,流動層
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