反応性ガスのレーザー照射により，ガスを加熱して化学反応を進行させ粒子を生成するプロセスである。一般に強力なパワーの炭酸ガスレーザーが用いられる。達成される温度は約 1400～1800 K である。金属原子を含むプリカーサーガスと NH₃，炭化水素などの混合ガスから，Si，Ti，Al の炭化物，窒化物粒子が生成されている。SiH₄ ガスからの Si 粒子の場合，反応温度は Si の融点より高いので，中の詰まった Si 粒子が生成される。しかし，融点が高い SiC および Si₃N₄ の場合は，粒子は凝集粒子となる。中の詰まった SiC および Si₃N₄ の粒子は，まず低温で Si 粒子を製造し，次に温度を上げ溶けた粒子をガスと反応させ，炭化物および窒化物として製造される。